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氧化亚硅真空蒸馏炉
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产品编号
所属分类
CVD气相沉积炉
数量
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产品描述
氧化亚硅真空蒸馏炉
设备用途：
氧化亚硅气相沉积包覆炉，是利用真空蒸镀法将粉碎后的所得元素掺杂金属硅与二氧化硅通过真空蒸镀工艺，制得元素掺杂氧化亚硅。
设备特点：
1、本公司自行设计生产的氧化亚硅气相沉积包覆炉有两种加热方式（感应加热、电阻加热和中频感应加热），内部各温区温差在±5℃以内，能有效保证物料在内腔内的反应温度均匀。加热端温度≤1400℃，收集区温度≤900℃。能充分满足客户用于氧化亚硅等可气相沉积材料的烧结工艺。
2、设备采用热电偶接触式测温控温精度高，高温真空度好，物料收集率高，具备物料烘干、烧结、收集于一体等特点，其物料反应充分、收集率高等特点。
3、真空采用三级真空机组，油扩散泵+罗茨泵+机械泵+真空阀门，以及我公司自行生产设计的真空过滤系统组成，具有真空度高，设备能在高温、高真空环境中长期使用。
产品介绍：
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炉型结构 |
卧式 |
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恒温区尺寸（mm）（可按客户需求定制） |
7500mm*600mm |
600mm*800mm |
700mm*1000mm |
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炉体 |
由内外双层水冷结构，与冷却水接触部分采用 304 不锈钢制作，有效防止炉体长时间使用漏气现象 |
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升华系统 |
由加热区和收集区组成，加热区由感应线圈、重质刚玉、石墨硬钻、等静压石墨组成，收集区由 310S不锈钢及保温层组成 |
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温控系统） |
采用 PLC触屏集中控制方式，自动化控制，带网口，可实现远程控制 |
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加热系统 |
采用感应加热，电源采用GBT 节能型电源，噪音小，比传统晶闻管电源节能 15%左右 |
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真空系统 |
由多级真空泵、真空阀，压力控制器及管路组成 |
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冷却系统 |
配置闭式冷却系统，内循环用去离子水，不会造成设备管路结垢，内循环水损失小，外循环用自来水自动补水，风机自启动散热，散热效果好，集成环保，占地面积小等特点 |
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设备由升华系统、收集系统、加热系统、温控系统、真空系统、机械系统、冷却系统组成 |
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关键词:
氧化亚硅真空蒸馏炉
氧化亚硅气相沉积包覆炉
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C/C复合材料大型沉积炉
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